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RO-EDI高純水制取設(shè)備

RO-EDI高純水制取設(shè)備

  EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。

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RO-EDI高純水制取設(shè)備說明書

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RO-EDI高純水制取設(shè)備產(chǎn)品介紹
RO-EDI高純水制取設(shè)備是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實(shí)現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。
EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透配合使用,,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),,取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ· cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)18MΩ· cm以上的超純水。

RO-EDI高純水制取設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域
A、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。
B、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
C、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
D、超純材料和超純化學(xué)試劑;
E、實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
F、汽車、家電表面拋光處理;
G、光電產(chǎn)品;
H、其他高科技精微產(chǎn)品

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